超高圧電子顕微鏡施設

超高圧走査透過電子顕微鏡（日立 / H-1250ST）
最高加速電圧：1250kV
点分解能：<0.14nm

200kV電子顕微鏡（日立 / H-800）
最高加速電圧：200kV
点分解能：<0.204nm

反応科学超高圧走査透過電子顕微鏡 JEM-1000K RS
最高加速電圧：1000kV
点分解能：0.15nm

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電子顕微鏡クラスター

FEI / Tecnai G2 Polara
最高加速電圧：300kV
点分解能：0.236nm

日立 / HF-2000
最高加速電圧：200kV
点分解能：0.23nm

日立 / H-9000NAR
最高加速電圧：300kV
点分解能：0.18nm

gatan / デュアルイオンミリング Model 600N
〜10kV、〜1mA、9〜40°
最終薄片化

NTT-AT / プチポリッシャーPOP101
荷重・回転数；一定
粒径：20、3、>1 μm
平面研磨（粗〜仕上げ）

集束イオンビーム試料作製装置
加速電圧：10〜40kV
倍率：50～300,000 / 60～300,000（SIM像）
イオン銃に搭載されがGaをイオン化し、サンプルへ集束されたイオンビームとして照射し加工する。